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平面拋光機的拋光運動要求

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平面拋光機的拋光運動要求

發(fā)布日期:2019-05-10 作者: 點擊:

  平面拋光機的拋光運動要求

  在平面拋光機加工中,挑選合理的運動方法以及拋光軌道是為重要的一步,拋光運動狀況的好壞,將會直接影響拋光加工時的精度以及出產(chǎn)的功率。所以,平面拋光機在拋光加工運動中,拋光運動應(yīng)滿意以下幾點要求:

平面拋光機

  1、在加工工件時,整個平面拋光機的拋光運動從頭到尾都應(yīng)該力求平穩(wěn)。

  2、拋光運動應(yīng)該確保工件可以均勻地觸摸拋光盤的全部外表。

  3、所選用的拋光運動應(yīng)使運動軌道不斷有規(guī)律地改變方向,盡量避免過早地呈現(xiàn)重復(fù)。

  4、在拋光運動時,拋光運動還應(yīng)該根據(jù)不同的拋光工藝要求,詳細的選取最佳運動拋光速度。

  5、在拋光運動中,平面拋光機的研具與工件之間應(yīng)處于還處于起浮的狀態(tài),而不應(yīng)是強制的限位狀態(tài)。

  6、拋光運動應(yīng)確保工件遭到均勻拋光即被研工件外表上的每一點所運動的路程應(yīng)盡量持平。

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