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平面拋光機,顧名思義,是用來清潔物體平面的粗糙部分,以達到鏡面效果。平面拋光機操作的關鍵是盡可能獲得最大的拋光速度,以便盡快去除損傷層。拋光過程分為兩個階段。粗拋光的目的是去除拋光損壞的層,拋光率應該很高。粗糙拋光引起的平面損傷是次要因素,但應盡可能小。目的是消除粗糙拋光造成的平面損傷,減少拋光損傷。平面拋光機平面拋光時,樣品和拋光盤的研磨面應絕對平行、均勻地壓在拋光盤上。同時,樣品應沿轉盤半徑旋轉前后移動,
以避免拋光織物局部磨損過快。當濕度過高時,拋光的磨料效應會減弱,試樣的硬相會增加,鑄鐵中鋼和石墨相中的非金屬夾雜物會“拖曳”,潤滑效應會減弱,磨削平面會失去光澤,甚至出現黑斑,輕合金鑄件平面會出現鑄件損傷現象和黃色現象。粗糙拋光面光滑,但無光澤,在顯微鏡下觀察磨削痕跡均勻精細,待精細拋光去除。在精密拋光過程中可適當提高轉臺的轉速,拋光時間適合粗拋光過程中破損層的去除。拋光的平面像鏡子一樣明亮。這些劃痕在顯微鏡的清晰視野中是看不到的,但在對比度照明下仍然可以看到。